Photochemical routes to silicon epitaxy
In: Journal of Vacuum Science and Technology A : Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 15 (1997), Heft 3, S. 1135 - 1139
1997Artikel/Aufsatz in Zeitschrift
ChemieFakultät für Chemie » Physikalische Chemie
Titel in Englisch:
Photochemical routes to silicon epitaxy
Autor*in:
Dippel, Olaf;Wright, Steven;Hasselbrink, EckartUDE
- GND
- 1162945346
- LSF ID
- 11041
- ORCID
- 0000-0002-9374-2868
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
Erscheinungsjahr:
1997
DOI
Scopus ID
Sprache des Textes:
Englisch