Subwavelength patterning of alkylsiloxane monolayers via nonlinear processing with single femtosecond laser pulses
In: Applied Physics Letters (APL), Band 92 (2008), S. 223111
2008Artikel/Aufsatz in Zeitschrift
ChemieForschungszentren » Center for Nanointegration Duisburg-Essen (CENIDE)
Damit verbunden: 1 Publikation(en)
Titel in Englisch:
Subwavelength patterning of alkylsiloxane monolayers via nonlinear processing with single femtosecond laser pulses
Autor*in:
Hartmann, NilsUDE
- GND
- 115540466
- LSF ID
- 11099
- ORCID
- 0000-0001-6804-514X
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
- LSF ID
- 11103
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
Erscheinungsjahr:
2008
Sprache des Textes:
Englisch