Hopster, Johannes; Diesing, Detlef; Wucher, Andreas; Schleberger, Marika:
Comparison of ion beam and electron beam induced transport of hot charge carriers in metal-insulator-metal junctions
In: Ion beams : new applications from mesoscale to nanoscale - 2011 MRS Spring Meeting, April 25 - 29, San Francisco, California, USA - New York: Cambridge Univ. Press, 2011 - (Materials Research Society symposium proceedings ; 1354)
2011Buchaufsatz/Kapitel in Tagungsband
ChemieFakultät für PhysikFakultät für Chemie » Physikalische Chemie
Titel:
Comparison of ion beam and electron beam induced transport of hot charge carriers in metal-insulator-metal junctions
Autor*in:
Hopster, JohannesUDE
LSF ID
51552
Sonstiges
der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
;Diesing, DetlefUDE
LSF ID
11102
ORCID
0000-0002-5587-2557ORCID iD
Sonstiges
der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
;Wucher, AndreasUDE
GND
1247767086
LSF ID
10403
ORCID
0000-0002-9244-9491ORCID iD
Sonstiges
der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
;Schleberger, MarikaUDE
GND
1227773390
LSF ID
10367
ORCID
0000-0002-5785-1186ORCID iD
Sonstiges
der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
DOI
10.1557/opl.2011.1083
Scopus ID
84875462898
Erschienen in
Ion beams : new applications from mesoscale to nanoscale
Konferenz
2011 MRS Spring Meeting, April 25 - 29, San Francisco, California, USA
Erscheinungsort:
New York
Verlag:
Cambridge Univ. Press
Erscheinungsjahr:
2011
ISBN
978-160511-331-9
In Serie
Materials Research Society symposium proceedings
in:
Band 1354