Plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition of amorphous aluminum nitride
In: Journal of Applied Physics, Jg. 90 (2001), Heft 11, S. 5825 - 5831
Titel in Englisch:
Plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition of amorphous aluminum nitride
Autor*in:
Harris, H.;Biswas, N.;Temkin, H.;Gangopadhyay, S.;Strathmann, MartinUDE
- LSF ID
- 14744
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
Erscheinungsjahr:
2001
Sprache des Textes:
Englisch