Exploring magnetic roughness in CoFe thin films
In: Journal of Applied Physics, Jg. 83 (1998), Heft 11, S. 6290 - 6292
Titel in Englisch:
Exploring magnetic roughness in CoFe thin films
Autor*in:
Freeland, J. W.;Chakarian, V.;Bussmann, K.;Idzerda, Y. U.;Wende, HeikoUDE
- GND
- 12115226X
- LSF ID
- 47290
- ORCID
- 0000-0001-8395-3541
- ORCID
- 0000-0002-2301-4670
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
Erscheinungsjahr:
1998
DOI
Sprache des Textes:
Englisch