Freeland, J. W.; Chakarian, V.; Bussmann, K.; Idzerda, Y. U.; Wende, Heiko; Kao, C. C.:
Exploring magnetic roughness in CoFe thin films
In: Journal of Applied Physics, Jg. 83 (1998), Heft 11, S. 6290 - 6292
1998Artikel/Aufsatz in Zeitschrift
Physik (inkl. Astronomie)
Damit verbunden: 1 Publikation(en)
Titel in Englisch:
Exploring magnetic roughness in CoFe thin films
Autor*in:
Freeland, J. W.;Chakarian, V.;Bussmann, K.;Idzerda, Y. U.;Wende, HeikoUDE
GND
12115226X
LSF ID
47290
ORCID
0000-0001-8395-3541ORCID iD
ORCID
0000-0002-2301-4670ORCID iD
Sonstiges
der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
;
Kao, C. C.
Erscheinungsjahr:
1998
Sprache des Textes:
Englisch