Dippel, Olaf; Wright, Steven; Hasselbrink, Eckart:
Photochemical routes to silicon epitaxy
In: Journal of Vacuum Science and Technology A : Vacuum, Surfaces, and Films, Jg. 15 (1997), Heft 3, S. 1135 - 1139
1997Artikel/Aufsatz in Zeitschrift
ChemieFakultät für Chemie » Physikalische Chemie
Titel in Englisch:
Photochemical routes to silicon epitaxy
Autor*in:
Dippel, Olaf;Wright, Steven;Hasselbrink, EckartUDE
GND
1162945346
LSF ID
11041
ORCID
0000-0002-9374-2868ORCID iD
Sonstiges
der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
Erscheinungsjahr:
1997
Scopus ID
Sprache des Textes:
Englisch