Influence of H on low temperature Si(111) homoepitaxy
In: Surface Science, Jg. 337 (1995), Heft 1–2, S. L777 - L782
Titel in Englisch:
Influence of H on low temperature Si(111) homoepitaxy
Autor*in:
Horn-von Hoegen, MichaelUDE
- GND
- 1201039908
- LSF ID
- 10366
- ORCID
- 0000-0003-0324-3457
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
korrespondierende*r Autor*in
Erscheinungsjahr:
1995
Sprache des Textes:
Englisch