On the origin of contact resistances in graphene devices fabricated by optical lithography
In: Applied Physics A : Materials Science and Processing, Jg. 122 (2016), Heft 2, S. 58
2016Artikel/Aufsatz in Zeitschrift
ElektrotechnikFakultät für Ingenieurwissenschaften » Elektrotechnik und Informationstechnik » Werkstoffe der ElektrotechnikForschungszentren » Center for Nanointegration Duisburg-Essen (CENIDE)
Titel in Englisch:
On the origin of contact resistances in graphene devices fabricated by optical lithography
Autor*in:
Chavarin, Carlos Alvarado;Sagade, Abhay A.;Neumaier, Daniel;Bacher, GerdUDE
- GND
- 110666038
- LSF ID
- 3929
- ORCID
-
0000-0001-8419-2158
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
- GND
- 1256879886
- LSF ID
- 1452
- ORCID
-
0000-0001-6792-6033
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
Erscheinungsjahr:
2016
Web of Science ID
Scopus ID
Sprache des Textes:
Englisch