Effect of in-flight annealing and deposition method on gas-sensitive SnOx films made from size-selected nanoparticles
In: Sensors and Actuators B : Chemical, Jg. 108 (2005), Heft 1-2, S. 62 - 69
2005Artikel/Aufsatz in Zeitschrift
ElektrotechnikPhysik (inkl. Astronomie)Fakultät für Ingenieurwissenschaften » Elektrotechnik und Informationstechnik » NanostrukturtechnikFakultät für Physik » Experimentalphysik
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Titel in Englisch:
Effect of in-flight annealing and deposition method on gas-sensitive SnOx films made from size-selected nanoparticles
Autor*in:
Kennedy, Marcus K.UDE
- LSF ID
- 2853
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
- GND
- 1208325426
- LSF ID
- 3631
- ORCID
-
0000-0001-5008-8133
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
- LSF ID
- 1103
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
- GND
- 1042619697
- LSF ID
- 2509
- ORCID
-
0000-0002-0405-7720
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
Erscheinungsjahr:
2005
Web of Science ID
Scopus ID
Sprache des Textes:
Englisch
Erschienen in
Erscheinungsort:
Amsterdam
Verlag:
Elsevier
in:
Jg. 108 (2005), Heft 1-2, S. 62 - 69
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