Pulsed laser deposition of epitaxial Cr2AlC MAX phase thin films on MgO(111) and Al2O3(0001)
In: Materials Research Letters, Jg. 9 (2021), Heft 8, S. 343 - 349
2021Artikel/Aufsatz in ZeitschriftOA Gold
Physik (inkl. Astronomie)Fakultät für PhysikForschungszentren » Center for Nanointegration Duisburg-Essen (CENIDE)
Damit verbunden: 1 Publikation(en)
Titel in Englisch:
Pulsed laser deposition of epitaxial Cr2AlC MAX phase thin films on MgO(111) and Al2O3(0001)
Autor*in:
Stevens, Marc;Pazniak, HannaUDE
- LSF ID
- 61617
- ORCID
-
0000-0002-0592-9009
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
- GND
- 1029383219
- LSF ID
- 3560
- ORCID
-
0000-0002-1864-3261
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
- GND
- 130011681
- LSF ID
- 3609
- ORCID
-
0000-0002-3209-4078
- Sonstiges
- der Hochschule zugeordnete*r Autor*in
Erscheinungsjahr:
2021
Open Access?:
OA Gold
DuEPublico 2 ID
Web of Science ID
Scopus ID
Notiz:
OA Förderung 2021
Sprache des Textes:
Englisch
Erschienen in
Erscheinungsort:
London
Verlag:
Taylor & Francis
in:
Jg. 9 (2021), Heft 8, S. 343 - 349
ISSN
ZDB ID
Abstract in Englisch:
Epitaxial Cr2AlC MAX phase thin films were grown on MgO(111) and Al2O3(0001) by pulsed laser deposition (PLD) at 600°C. X-ray diffraction and morphology studies of Cr2AlC thin films on MgO (111) reveal phase purity, columnar growth, the epitaxial relation Cr2AlC(0001) || MgO(111) and Cr2AlC [11-20] || MgO[10-1] and similar growth behaviour on Al2O3(0001). Resistivity measurements show semiconductor-like behaviour for 10 and 20 nm thick films, and metallic-like behaviour for thicker films, suggesting a percolation thickness slightly above 20 nm. Our results demonstrate the potential of PLD as a novel method for the growth of epitaxial MAX phase thin films.